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1800℃小型箱式爐淬火硬度不足的改善方法箱式爐是把爐內(nèi)的電能轉(zhuǎn)化為熱量對(duì)工件加熱的加熱爐，同燃料爐比較，箱式爐的優(yōu)點(diǎn)有爐內(nèi)氣氛容易控制，甚至可抽成真空；物料加熱快，加熱溫度高，溫度容易控制；生產(chǎn)過程較易實(shí)現(xiàn)機(jī)械化和自動(dòng)化；勞動(dòng)衛(wèi)生條件好；熱效率高；產(chǎn)品質(zhì)量好；且更加環(huán)保對(duì)與日趨嚴(yán)重的環(huán)境問題是一個(gè)很好的產(chǎn)品等。冶金工業(yè)上箱式爐主要用于鋼鐵、鐵合金、有色金屬等的熔煉、加熱和熱處理。1800℃小型箱式爐淬火硬度不足的改善方法：1.大型工件：石墨+機(jī)油膏劑法先；先將石墨粉置于干凈...

小型真空管式爐充氫氣或惰性氣體方法：一、使用氫氣作為工作氣體時(shí)1.接通氫氣氣路，對(duì)各接頭處用肥皂水檢漏，確認(rèn)不漏氣。2.確認(rèn)各閥門處于關(guān)閉狀態(tài)。3.逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)旋鈕開氫氣瓶主閥，順時(shí)針旋動(dòng)旋鈕，緩慢打開出口減壓閥，使出口氣壓在0.1MPa。4.接通機(jī)械泵電源，打開管式爐出口閥和機(jī)械泵氣路上的兩個(gè)閥門，抽5分鐘。5.關(guān)閉機(jī)械泵氣路上的兩個(gè)閥門，關(guān)閉管式爐出口閥門，關(guān)機(jī)械泵。6.逆順時(shí)針打開上氣路控制閥，使箭頭指向“開”位置。7.逆順時(shí)針調(diào)節(jié)流量計(jì)旋鈕，使示數(shù)在20ml/min。8...

真空蒸發(fā)鍍膜儀日常維護(hù)1、例行保養(yǎng)生產(chǎn)設(shè)備中發(fā)現(xiàn)了一個(gè)不好的跡象，立即解決。鍍膜機(jī)不要認(rèn)為這油定期更換，等待維修時(shí)間，轉(zhuǎn)子泵嚴(yán)重磨損可能。例如，軸承的一些卡工件轉(zhuǎn)架，更換軸承，然后等到它*打破了，可真是個(gè)大問題，鍍膜機(jī)可能會(huì)導(dǎo)致轉(zhuǎn)架電機(jī)燒毀等。2、定期檢修，鍍膜機(jī)有人會(huì)問一個(gè)日常的維護(hù)也需要定期維護(hù)？事實(shí)上，每個(gè)設(shè)備都有它自己的生命，如2年油擴(kuò)散泵的使用壽命，提前更換，鍍膜機(jī)在生產(chǎn)階段沒有問題。只要你把日常維護(hù)和定期檢修，對(duì)設(shè)備的使用壽命，在同一時(shí)間的延長，生產(chǎn)過程中的失效概...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在實(shí)驗(yàn)室制備金屬膜、有機(jī)膜等方面有著廣泛的應(yīng)用。要想保證高真空蒸發(fā)鍍膜儀的正常運(yùn)行，就必須保證高真空蒸發(fā)鍍膜儀沒有漏氣現(xiàn)象?，F(xiàn)在成越科儀就給大家介紹一下檢查高真空蒸發(fā)鍍膜儀是否漏氣的方法。查看漏氣狀況是確保高真空蒸發(fā)鍍膜儀真空度的一項(xiàng)查看辦法，簡(jiǎn)稱檢漏，真空度的凹凸是直接影響到鍍膜作用的，所以檢漏是*...

開啟式管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。內(nèi)爐膛表面涂有1750℃美國進(jìn)口的高溫氧化鋁涂層材料提高反射率及設(shè)備的加熱效率和爐膛潔凈度，同時(shí)延長儀器的使用壽命。進(jìn)口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命，是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對(duì)金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的理想設(shè)備。開啟式管式爐使用或長時(shí)間不用后，要在120℃左右烘烤1小時(shí)，在300℃左右烘烤2小時(shí)后使用，以免造...

等離子鍍膜設(shè)備采用真空蒸發(fā)鍍膜法，在玻璃外表面涂制一層納米化學(xué)材料，大限度的降低玻璃表面張力，使灰塵與玻璃表面的接觸面積減少90%以上。AF鍍膜機(jī)作用后的外表面具有較強(qiáng)的疏水、抗油污、抗干擾能力；使視屏玻璃面板長期保持著光潔亮麗的效果。等離子鍍膜設(shè)備主要優(yōu)勢(shì)體現(xiàn)：1、AF噴涂設(shè)備采用原裝德國進(jìn)口納米噴頭，噴頭采用高低壓轉(zhuǎn)換霧化設(shè)計(jì)，使液態(tài)分子極精細(xì)，且不影響藥水效果。2、恒定流量控制系統(tǒng)，保證藥水平穩(wěn)恒定的供流，而非波浪線式供流，解決白霧現(xiàn)象。3、控制噴涂藥量，提高藥水的霧化...

雙靶磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。雙靶磁控濺射儀原理磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中...